Папиллярные узоры пальцев рук - маркер спортивных способностей: дерматоглифические признаки формируются на 3-5 месяце беременности, не изменяются в течение жизни...
Археология об основании Рима: Новые раскопки проясняют и такой острый дискуссионный вопрос, как дата самого возникновения Рима...
Топ:
Определение места расположения распределительного центра: Фирма реализует продукцию на рынках сбыта и имеет постоянных поставщиков в разных регионах. Увеличение объема продаж...
Процедура выполнения команд. Рабочий цикл процессора: Функционирование процессора в основном состоит из повторяющихся рабочих циклов, каждый из которых соответствует...
Интересное:
Уполаживание и террасирование склонов: Если глубина оврага более 5 м необходимо устройство берм. Варианты использования оврагов для градостроительных целей...
Лечение прогрессирующих форм рака: Одним из наиболее важных достижений экспериментальной химиотерапии опухолей, начатой в 60-х и реализованной в 70-х годах, является...
Распространение рака на другие отдаленные от желудка органы: Характерных симптомов рака желудка не существует. Выраженные симптомы появляются, когда опухоль...
Дисциплины:
2017-10-17 | 378 |
5.00
из
|
Заказать работу |
|
|
Попадающий на мишень электронный луч создает заряд, равный произведению тока на время экспонирования. Полезное действие луча на поверхность мишени можно выразить через число электронов, приходящееся на единицу площади, которое необходимо для получения нужного эффекта. Так, каждый резист характеризуется пороговой дозой S, измеряемой в кулонах на квадратный сантиметр. Время, необходимое для экспонирования пятна диаметром ds лучом с плотностью тока Js на поверхности мишени, равно
ts = = S/Js.
Например, чтобы экспонировать резист с S=8 • 10-5 Кл/см2 требуется примерно S*1014 электрон/см2; в этом случае достигается разрыв (или сшивание) такого количества химических связей в полимере, что обеспечивается проявление с желаемой контрастностью. Чем меньше значение S, тем выше чувствительность резиста, т. е. для достижения нужного эффекта в резисте требуется меньшее число электронов. Поэтому чувствительность резиста строго определяет скорость экспонирования в процессе электронно-лучевой литографии.
Существенное ограничение на разрешающую способность накладывает расширение экспонированной линии в резисте, вызываемое рассеянием электронов, поскольку ширина линии оказывается больше диаметра пятна.
Хорошо известно, что попадающие в твердый материал электроны могут рассеиваться под большими углами вследствие упругих столкновений с атомными ядрами материала; рассеян не приблизительно пропорционально атомному номеру Z [21, 68]. Пробег электронов в резисте обычно много больше толщины слоя резиста, поэтому электроны проходят сквозь резист в подложку (например, кремниевую), характеризующуюся большим (относительно резиста) атомным номером. По этой причине рассеяние происходит главным образом в подложке. Значительная часть электронов отражается и возвращается в резист, причем электроны имеют достаточную для экспонирования энергию. В результате образуется широкая по сравнению с диаметром падающего электронного луча экспонированная область.
|
Эффект рассеяния обусловливает принципиальное ограничение минимальной ширины линий, формируемых е помощью электронно-лучевой литографии. Кроме того, некоторые резисты способны изменять форму рисунка — набухают или дают усадку при проявлении, что отражается на размерах элементов рисунка.
Помимо рассеяния электронов существует другой эффект, ограничивающий минимальную ширину формируемых линий [22]; этот эффект зависит от чувствительности резиста и обусловлен главным образом статистическим характером потока электронов. Эффект будет рассмотрен в гл. 2, однако здесь полезно дать его качественное описание. Как было показано, экспонирование резиста характеризуется числом электронов, падающих на единицу площади, т. е. S = eNe/A, где Ne — число электронов, попадающих на площадь А. Численно это составляет для A = (0,1 см)2 и 5=10"7 Кл/см2
электронов. Однако если A = (0,01 мкм)2, то для того же резиста Ne~ 0,6электрона.
Поэтому концепция постоянной чувствительности резиста недействительна, когда дискретная экспонируемая область очень мала. На каждую минимальную экспонируемую область (элемент разложения) должно приходиться некоторое минимальное число электронов.
Это число грубо можно определить следующим образом. Эмиссия электронов с катода представляет собой случайный (во времени) процесс, а не последовательность равномерно-распределенных во времени событий. Поскольку число электронов, попадающих на поверхность за время t(Ns = ~ Jt/e), велико, неопределенность этого числа составляет У Ns. Это означает, что реально число электронов может изменяться в интервале Jtje±^Jt!e. Поэтому отношение необходимого числа электронов к значению неопределенности составляет Nsj\ANS = V~ Ns и напоминает отношение сигнал-шум. Для полной уверенности в том, что резист экспонирован должным образом, отношение должно быть большим (примерно 10), т. е. минимальное число электронов, которые определенно попадают «а данный участок, составляет Nm = = 102. Поэтому в областях с малыми размерами минимальная ширина линии связана с пороговой дозой выражением
|
( (1.1)
Выражение (1.1) показывает, что очень чувствительные резисты не пригодны для формирования структур с высокой разрешающей способностью, если только на область с малыми размерами не попадает число электронов, существенно большее Минимального.
|
|
Особенности сооружения опор в сложных условиях: Сооружение ВЛ в районах с суровыми климатическими и тяжелыми геологическими условиями...
Эмиссия газов от очистных сооружений канализации: В последние годы внимание мирового сообщества сосредоточено на экологических проблемах...
Историки об Елизавете Петровне: Елизавета попала между двумя встречными культурными течениями, воспитывалась среди новых европейских веяний и преданий...
История развития хранилищ для нефти: Первые склады нефти появились в XVII веке. Они представляли собой землянные ямы-амбара глубиной 4…5 м...
© cyberpedia.su 2017-2024 - Не является автором материалов. Исключительное право сохранено за автором текста.
Если вы не хотите, чтобы данный материал был у нас на сайте, перейдите по ссылке: Нарушение авторских прав. Мы поможем в написании вашей работы!