Индивидуальные очистные сооружения: К классу индивидуальных очистных сооружений относят сооружения, пропускная способность которых...
Биохимия спиртового брожения: Основу технологии получения пива составляет спиртовое брожение, - при котором сахар превращается...
Топ:
Техника безопасности при работе на пароконвектомате: К обслуживанию пароконвектомата допускаются лица, прошедшие технический минимум по эксплуатации оборудования...
Проблема типологии научных революций: Глобальные научные революции и типы научной рациональности...
Эволюция кровеносной системы позвоночных животных: Биологическая эволюция – необратимый процесс исторического развития живой природы...
Интересное:
Финансовый рынок и его значение в управлении денежными потоками на современном этапе: любому предприятию для расширения производства и увеличения прибыли нужны...
Берегоукрепление оползневых склонов: На прибрежных склонах основной причиной развития оползневых процессов является подмыв водами рек естественных склонов...
Как мы говорим и как мы слушаем: общение можно сравнить с огромным зонтиком, под которым скрыто все...
Дисциплины:
2017-09-29 | 928 |
5.00
из
|
Заказать работу |
|
|
КАРТИНЕ ПОЛОС РАВНОЙ ТОЛЩИНЫ
Цель работы: измерение угла воздушного клина в зазоре между стеклянными пластинками по интерференционной картине полос равной толщины.
Теоретические положения
Интерференция в воздушном зазоре. Полосы равной
Толщины
При наблюдении интерференции монохроматического света длиной волны λ, прошедшего тонкий воздушный зазор между двумя плоскопараллельными пластинками (рис. 3.24.1),
Рис. 3.24.1.
оптическая разность хода интерферирующих лучей О и О' находится в виде:
∆ s = (AD + DC) – n ∙BC + λ, (3.24.1)
где d – толщина зазора, n – показатель преломления пластин, φ – угол падения лучей на границу стекло-воздух, φ1 -угол преломления.
Дополнительная разность хода λ обусловлена отражениями от оптически более плотной среды в точках С и D (при углах φ1, меньших угла Брюстера, на каждом отражении происходит сдвиг на вследствие изменения фазы волны на π).
Получим выражения для отрезков AD, DC и BC:
(2) |
(3.24.2)
ВС = АС · sin φ = 2 d · tg φ1sin φ. (3.24.3)
Подставляя (3.24.2) и (3.24.3) в (3.24.1) и учитывая закон Снеллиуса n sin φ= п 1sin φ1, получим
∆s = 2d cos φ1 + λ. (3.24.4)
Условия максимумов и минимумов для интерференционной картины, образуемой когерентными волнами, отраженными от обеих поверхностей в зазоре, имеют вид
(3.24.5)
Здесь k = 2 m, где т – целое число, для минимумов, и k = = 2 m + 1для максимумов.
Если в пределах ширины светового пучка монохроматического света толщина зазора d неодинакова в разных местах, то в проходящем свете на поверхности пластины будут наблюдаться темные и светлые интерференционные полосы. Эти полосы называются полосами равной толщины, так как каждая из них проходит через точки с одинаковыми значениями d.
|
Примечание. Аналогичные полосы можно наблюдать также и в отраженном свете.
В белом свете наблюдается система цветных интерференционных полос равной толщины.
При интерференции на прозрачном клине полосы равной толщины будут параллельны ребру клина. Ширина интерференционной полосы В (расстояние между двумя соседними минимумами или максимумами) при углах падения близких к нулю (φ ≈ 0) находится в виде:
, (3.24.6)
где α – угол при вершине клина (α << 1 рад).
Описание оборудования
Устройство интерференционного объекта приведено на рис. 3.24.2. Объект содержит две стеклянные пластинки 1 и 2, которые прижаты друг к другу с помощью оправок 3 и 4. На соприкасающихся поверхностях пластинок напылены отражающие полупрозрачные покрытия, что увеличивает контрастность наблюдаемой картины интерференции. Оправки прижимаются тремя винтами 6 к оправе 5. Воздушный клин возникает при неравномерном прижатии оправок друг к другу (2 винта должны быть ослаблены).
Рис. 3.24.2. |
При необходимости можно увеличить расстояние от объекта до экрана вдвое, установив вместо экрана 5 зеркало 5 ' (рис. 3.24.4) и наблюдая интерференционные полосы на экране с отверстием 3.
Период интерференционных полос B, локализованных в зазоре, следует рассчитывать по формуле
|
Рис. 3.24.3.
Рис. 3.24.4.
где L – расстояние от объекта до экрана (см. рис. 4: L= 484 ммили
L = 484 мм + 584 мм = 1068 ммв зависимости от собранной схемы), – угловая расходимость излучения после объектива (для используемого в РМС3 объектива = 3,4°)
|
|
Архитектура электронного правительства: Единая архитектура – это методологический подход при создании системы управления государства, который строится...
История создания датчика движения: Первый прибор для обнаружения движения был изобретен немецким физиком Генрихом Герцем...
Индивидуальные и групповые автопоилки: для животных. Схемы и конструкции...
Типы сооружений для обработки осадков: Септиками называются сооружения, в которых одновременно происходят осветление сточной жидкости...
© cyberpedia.su 2017-2024 - Не является автором материалов. Исключительное право сохранено за автором текста.
Если вы не хотите, чтобы данный материал был у нас на сайте, перейдите по ссылке: Нарушение авторских прав. Мы поможем в написании вашей работы!